用于玻璃、晶圓、薄膜等的實驗和研究的手動批量曝光機

■ MA-1200

■ MA-1400

■ MA-1200A

■ MA-4301M

■ 可以選擇接觸曝光（軟硬）和接近曝光  

■ 支持最大 500mm ×500mm 的基板。 根據(jù)應用和基板尺寸，配備超高壓汞燈（500W、1kW、2kW、3.5kW）和光學系統(tǒng)，將各種鏡子、特殊鏡頭、冷凝 器鏡頭等完美結合

■ 手動批量曝光機，適用于多品種、小批量生產、實驗和研究，可實現(xiàn)穩(wěn)定的自動間隙控制                                                              

■ 通過減少占用空間，節(jié)省空間

■ 高速圖像處理技術，可實現(xiàn)與晶圓的高精度掩模對齊                                          

■ 自動掩模更換安裝，適用于掩模存儲                

■ 安裝非接觸式預對準器。高精度輸送，不損壞基板                                                                                            

■ DNK補償機構精確控制接近間隙

■ 安裝鏡面光學系統(tǒng)。在照射平面上實現(xiàn)了均勻、高強度的照明

■ 晶圓尺寸：8"(200 mm)      12"(300 mm)                   

■ 材質：Si GFlass                                                                  

■ 曝光方式：軟接觸曝光/硬接觸曝光/近距離接觸曝光           

■ 主機尺寸：W 2600 x D 2300 x H 2350 mm                          

■ 主機重量：2300kg                                                                

■ 燈箱：700kg